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應(yīng)用領(lǐng)域

APPLICATION

產(chǎn)品介紹

Product Introduction

真空鍍膜機(jī)簡(jiǎn)介


        真空鍍膜機(jī)主要指一類需要專門在較高真空度下進(jìn)行鍍膜的高精密設(shè)備,其中鍍膜工藝具體包括真空電阻加熱蒸發(fā)、電子槍加熱蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積、離子束濺射等多種,但主要還是分為 蒸發(fā)沉積鍍膜 和 濺射沉積鍍膜 兩種。    

        需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

        蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。

        對(duì)于濺射類鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,最終形成薄膜。

        我司自主研發(fā)的系列鍍膜機(jī)適用于在玻璃、樹脂、陶瓷、金屬等各類材質(zhì)表面鍍制AR膜、硬質(zhì)膜、濾光膜、高反膜等各類薄膜,具有高生產(chǎn)效率、高穩(wěn)定性、高重復(fù)性的特點(diǎn),適合大批量連續(xù)作業(yè)的需求。

        負(fù)責(zé)產(chǎn)品研發(fā)及生產(chǎn)的總工程師,來自日本頂級(jí)鍍膜設(shè)備制造企業(yè),擁有多年各類全自動(dòng)光學(xué)真空鍍膜設(shè)備的開發(fā)及制造經(jīng)驗(yàn)。全系列產(chǎn)品在南陽(yáng)工廠完成整體生產(chǎn)及出廠調(diào)試,與國(guó)外同類產(chǎn)品相比,具有貼近用戶需求、性價(jià)比高、售后服務(wù)及時(shí)等明顯優(yōu)勢(shì)。



真空鍍膜機(jī)特性

  1. 01
    腔體直徑
    Φ600-Φ2350mm
  2. 02
    工件盤選擇
    球星、行星、自動(dòng)翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)
  3. 03
    抽氣系統(tǒng)選擇
    擴(kuò)散泵分子泵
  4. 04
    離子源選擇
    射頻離子源
    霍爾離子源
    考夫曼源
  5. 05
    電子槍選擇
    單、雙電子槍選擇,可滿足百層鍍膜需求
  6. 06
    全自動(dòng)
    全自動(dòng)
    控制軟件

應(yīng)用領(lǐng)域

Application

智能手機(jī)薄膜種類

Films for Smart Phone
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